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  • NF3三氟化氮

三氟化氮(NF3)常用作氟化氫-氟化氣高能化學激光器的氟源。三氟化氮是微電子工業中一種優良的等離子蝕刻氣體,對矽和氮化矽蝕刻,采用三氟化氮比四氟化碳和四氟化碳與氧氣的混合氣體有更高的蝕刻速率和選擇性,而且對表麵無汙染,尤其是在厚度小於1.5um的集成電路材料的蝕刻中,三氟化氮具有非常優異的蝕刻速率和選擇性,在被蝕刻物表麵不留任何殘留物,同時也是非常良好的清洗劑。
 

三氟化氮理化特性

三氟化氮(nitrogen trifluoride;nitrogen fluoride),化學式NF3。

氣體分子量71.01

熔點–206.8℃(1atm)

沸點–129℃(1atm)

臨界溫度–39.3℃

臨界壓力44.02atm(4.46MPa)

液體密度1554 kg/m3(1atm,沸點時)

氣體密度2.95kg/m3(1atm,21℃)

水中溶解度(1atm,22℃):1.43×10-5當量濃度。

純淨的NF3氣體是一種無色無味的氣體,當混入一定量的雜質氣體後顏色發黃,同時會有發黴或刺激性氣味。NF3氣體不可燃,但能助燃。當溫度超過350℃時,三氟化氮氣體會緩慢分解,分解時產生強氧化性氟,因此,在高溫下它是一種強氧化劑。

 

三氟化氮NF3氣體產品質量標準(Q/718J58-2004)

NF3 O2+Ar N2 CO CO2 CF4 N2O SF6 h2O HF
≥99.9% <50 <50 <10 <10 <300 <10 <25 <1 <1
99.99% <5 <5 <2 <2 <80 <2 <2 <1 <1
>99.99% <5 <5 <2 <2 <40 <2 <2 <1 <1
≥99.995% <5 <5 <1 <1 <20 <1 <1 <1 <1

注:上述氣體雜質濃度如無特別說明均為體積分數,×10-6

 

三氟化氮儲存及運輸

NF3氣瓶應儲存於陰涼、通風倉庫內,倉庫溫度不宜超過30℃。NF3氣瓶應遠離火種、熱源、防止陽光直射,與還原劑、易燃或可燃物等分開存放。NF3氣瓶在搬運時要輕裝、輕卸,防止鋼瓶及附件破損。NF3氣瓶的運輸按危險品運輸。運輸時用氣瓶固定架將NF3氣瓶固定好,用汽車公路運輸或用輪船集裝箱運輸

 

三氟化氮包裝

NF3氣體采用鋼質無縫氣瓶盛裝,鋼瓶容積:47L、43.3L、40L、8L

鋼瓶型號:DOT-3AA, GB 5099

閥門:CGA 330、CGA 640

鋼瓶壓力:9.0~13.0MPa

氣體質量:22kg、20kg、3.4kg

危規號:23016

UN編號:2451

包裝分類:Ⅱ

包裝標誌:6

包裝方式可根據用戶需要定製更改。